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硬鉻電鍍工藝的特點及鍍液的配制：
一 特點
1、高陰極電流效率，可達22~30%。
2、高沉積速度，一般是傳統鍍鉻的2~3倍。
3、不會腐蝕陰極低電流密度區(qū)的底材。
4、鍍層硬度達HV900~1200。
5、微裂紋數達1000條/寸。
6、鍍層厚度均勻，有良好的分散能力。
7、鍍液維護容易，控制簡單。
8、無固體添加之鉻塵和濺水現象。
9、無陽極腐蝕，勿須使用特殊陽極。
二、硬鉻電鍍鍍液的配制
1、在槽中放入2/3的去離子水，按上表計算，將所需的鉻酸、硫酸加入鍍槽中。
2、再將HA高效硬鉻光亮劑Q加入鍍槽，添加去離子水，至所需之液位高度。
3、加熱至55~60℃。
4、分析硫酸濃度、鉻酸濃度，并調整至工藝規(guī)范。
5、電解4~6小時。
6、開始作業(yè)。
三、轉缸與前處理
由一般傳統的硬鉻電鍍鍍液轉為HA全光亮硬鉻工藝的程序非常簡單，只須將鍍液送交本公司化驗，經確定無機雜質不超過7.5克/升，同時不含氟化物、稀土、磺酸類低溫添加劑，則本公司將協助客戶將鍍液轉成HA全光亮硬鉻工藝。
HA全光亮硬鉻工藝之前處理與一般傳統硬鉻電鍍相同，無需經過特殊程序的處理。
四、設備
鍍槽（缸）：鐵槽內襯軟式PVC槽襯或其它認可材料如Koroseal均可。
陽極：含7%錫的鉛陽極，其他如鉛錫、鉛銻陽極亦可使用。
整流器：輸出功率需達到9~15伏特較為適當，同時輸出電流之波紋應在5%以下。
溫度控制：熱交換器或冷卻盤管，建議使用鈦管或金屬管披覆鐵弗龍（Teflon）或碳氟化物（PVDF）為佳，也可用塑料加強管代用。
五、硬鉻電鍍添加劑的作用與補給
HA高效硬鉻光亮劑（補）以每1000安培小時6毫升補加。
或每添加1公斤鉻酸補加40毫升HA高效硬鉻光亮劑（補）
鉻酸以每1000安培小時添加120~150克。
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